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第六百八十三章 自主研发系统国产化替代(2/2)

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刻机研发态度改变许多,这一切都还得益于光机所和深蓝研究成果,这些研究成果也让上头看到希望。

“不错,试运行吧。”陈学祖满意点头道。

苏新宏和谭少峰对光刻机进行最后检查,随后两人将硅晶片和光照放入光刻机之中,钟飞雄在收到两人信号之后按下光刻机运行键。

因为光刻机内部处于封闭状态,没办法查看光刻机内部的情况,只能通过系统来查看运行速度,二十七秒后一硅晶片曝光完毕。

这个速度相对比原来的速度提升了八秒。

实际上这个速度并不算快,换做后世只需要十二秒,想要再提升光刻机的速度,光凭系统还有校准还做不到,必须得搭配更先进的电机才行。

只有更先进的电机才能加快光刻机的速度。

一连测试一百片晶圆片没有问题后蒋尚义和陈学祖就离开了。

想要彻底验证光刻机是否改造成功,还得把后面的蚀刻清洗完成才行,在得出成品率以后才知道改造是否成功。

成品率必须要达到99.95%以上才算成功。

实际上50%以上成品率就算成功了,只是这个成品率会大幅度提高成本,这样的成品率芯片成本最少提高1.5倍以上。

这么低的成品率注定没办法进行大规模的商用。

所以才会说成品率必须达到99.95%以上才算成功。

不过99%以上成品率对于他们来说并不是什么难度,之前的一次改造成品率就已经达到85%成品率。

钟飞雄对于这次改造非常有信心。

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